Дорогие читатели, Нашему шестнадцатилетнему, волонтёрскому и некоммерческому проекту для создания новой, современной версии N-N-N.ru, очень нужно посоветоваться касательно платформы нашего сайта – SYMFONY & DRUPAL 8. Платформа не простая, но обещаем – мы не займём много времени, просто нужна консультационная поддержка квалифицированного разраба. Если вы можете помочь, то связаться с нами можно на страницах Facebook.com здесь и здесь.

Компания Крокус Наноэлектроника успешно привлекла дополнительное финансирование

Компания ООО «Крокус Наноэлектроника» (КНЭ) — созданное в 2011 году совместное предприятие Crocus Technology, ведущего разработчика магнитно-расширенной полупроводниковой технологии, и РОСНАНО, — сообщает о привлечении со стороны своих основных инвесторов дополнительного финансирования в размере $60 млн.

Полученные средства будут использованы для завершения строительства собственного производства, расположенного в Москве. Завод КНЭ станет первым в мире производством магнитной памяти, которое будет серийно выпускать на базе КМОП-пластин диаметром 300мм современные устройства с использованием прорывной магнитной технологии Crocus Magnetic Logic UnitTM. Кроме того, это первый завод в России, использующий пластины диаметром 300 мм для выпуска MRAM.

В частности, привлеченное дополнительное финансирование позволит КНЭ:

  • завершить строительные и установочные работы;
  • завершить закупку и установку всего капитального оборудования, необходимого для производства;
  • ускорить внедрение 3-го поколения технологии Crocus Technology и завершить его до конца 2014 года.

«Мы очень рады, что успешно привлекли эти средства, — отметил Марк Дидик, Генеральный директор КНЭ. — Это еще раз свидетельствует что наши акционеры уверены в перспективах нашего бизнеса и способности нашей управленческой команды реализовать выбранную стратегию. Полученное финансирование полностью обеспечит нас средствами для завершения последнего — ключевого — этапа по запуску первого в России завода, способного работать с пластинами диаметром 300 мм».

Первая очередь производства была запущена на заводе через год после начала строительства. Сегодня КНЭ имеет возможность наносить магнитные слои для формирования ячеек памяти на КМОП-пластины диаметром как 200 мм, так и 300 мм. В рамках текущего этапа КНЭ работает над увеличением производительности завода: планируется, что к концу 2014 года пропускная способность предприятия достигнет 500 пластин в неделю.

Неделей ранее Совет директоров КНЭ в полном составе посетил Технополис «Москва», где расположен ультрасовременный производственный комплекс компании.

Пожалуйста, оцените статью:
Пока нет голосов
Источник(и):

Роснано